Author,Title,Journal,ISSN,Publisher,Date,Volume,Number,Page,URL,URL(DOI)
内田 恭敬 and 大平 俊行 and 鈴木 良一,エチレン基含有ポーラスシリカ膜の空孔評価,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2005-01-31,104,645,17-22,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009407879096960,