著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
大野 真也 and 井上 慧 and 森本 真弘,Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2011-07-04,111,114,23-27,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009408096680320,