著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
輪島 寿夫 and 廣瀬 文彦,MOCVD法によるSi(100)基板上ZnO薄膜形成,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2006-08,106,203,9-13,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009409352304384,