著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
黄 海鎭 and 淡野 正信 and 鳥山 素弘,化学修飾アルコキシド法による多孔質酸化物薄膜の開発,名古屋工業技術研究所報告,13403729,名古屋 : 産業技術総合研究所名古屋工業技術研究所,2000,49,1,1-4,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009409788875264,