著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
古川 雅一 and 福田 永 and 佐藤 孝紀,中性原子発生装置の開発とナノスケール半導体薄膜形成への応用に関する研究,室蘭工業大学地域共同研究開発センター研究報告,,室蘭 : 室蘭工業大学地域共同研究開発センター,2006-11,,17,"中扉1枚,23-31",https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009409851723904,