著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
山口 拓也 and 奥村 秀樹 and 白石 達也 and 藤田 剛 and 阿多 義文 and 小林 研也,高耐圧デバイスの有効面積効率を改善する高アスペクト比ディープトレンチ終端(HARDT²)技術,"電気学会研究会資料. SPC = The papers of technical meeting on semiconductor power converter, IEE Japan",,東京 : 電気学会,2017-11-20,2017,151-164・166-172,1-6,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009409990752640,