著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
一村 信吾,高純度オゾンビームを用いたシリコン極薄酸化膜の形成と評価,まてりあ = Materia Japan,13402625,仙台 : 日本金属学会 ; 1994-,1998-03,37,3,166-170,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009410328708480,