著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
深津 茂人 and 平野 泉 and 三谷 祐一郎,次世代LSIに向けたメタルゲート電極/高誘電率ゲート絶縁膜の高信頼化技術,東芝レビュー = Toshiba review,03720462,東京 : 東芝技術企画部,2010-07,65,7,28-32,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520010380417189376,