著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
佐藤 貴伸 and 山本 恵彦 and 長尾 昌善,Si FEAのHfC被覆による特性改善--引出ゲート付きHfC被覆Si FEAの作製と評価,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2002-12-13,102,502,51-56,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290882043880576,