著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
安達 久美 and 安藤 伸一 and 古林 治,Pd/a-Si:H積層膜における熱処理および光照射によるシリサイド化反応,東京電機大学工学部研究報告,0389617X,東京 : 東京電機大学工学部,1996-12,,44,51-59,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290882128251520,