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石部 貴史 and 中村 芳明 and 松井 秀紀,Si基板上への鉄酸化物ナノドットのエピタキシャル成長とその電子状態測定,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2013-06-18,113,87,51-55,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290882981338112,