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寺迫 智昭 and 門田 直己 and 大森 裕也 and 佐伯 拓哉,溶液成長法によるCuO及びCu₂O薄膜の成長と表面モフォロジー,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2016-06-17,116,100,1-6,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290883867143552,