著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
Gyoyoung Jin and Siyoung Choi and Jinhwa Heo,Invited FEOL Process for Sub-100nm DRAM,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2002-07-01,102,175,1-4,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290884050021248,