著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
澤木 宣彦 and 岩田 博之 and 川北 将吾,シリコン基板上窒化物半導体の高品質化に関する研究,愛知工業大学総合技術研究所研究報告,13449672,豊田 : 愛知工業大学総合技術研究所,2011-09,,13,19-22,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290884742788608,