著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
望月 和浩 and 紀 世陽 and 小杉 亮治 and 米澤 喜幸 and 奥村 元,化学的気相堆積法を用いたSiCトレンチ埋込みのトポグラフィー・シミュレーション,"電気学会研究会資料. EDD = The papers of technical meeting on electron devices, IEE Japan",,東京 : 電気学会,2018-03,2018,32-42,17-22,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290884957020032,