著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
,Si表面処理法とその評価(技術ノート),応用物理,03698009,東京 : 応用物理学会,1992-11,61,11,p1165-1172,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520290885232101376,