著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
田島 暢夫 and 神力 学 and 宮澤 和浩,次世代Siデバイス向けPECVD低誘電率層間絶縁膜用プレカーサーの開発,大陽日酸技報,1349693X,東京 : 大陽日酸技術本部技報編集事務局,2005,,24,16-21,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520291855389464320,