著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
劉 新宇,最新の中国特許情報及び日本特許実務とのいくつかの相違点 : 注目されている登録後の補正、分割出願及びPPH制度について,知財研フォーラム,13480529,東京 : 知的財産研究所,2014,97,,59-64,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520291856032777856,