著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
Aaron Hand,ウェーハ洗浄技術変革の時 次世代プロセス要求に応える,Semiconductor international. 日本版,13496425,東京 : リード・ビジネス・インフォメーション,2008-10,5,10,16-22,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520291856176796800,