著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
末本 祐也 and 上岡 義弘 and 召田 雅実 and Liwen SANG and 長田 貴弘 and 知京 豊裕,窒化ガリウムスパッタリングターゲットを用いたSi基板上エピタキシャル成膜と評価,東ソー研究・技術報告 = Tosoh research & technology review,13463039,周南 : 東ソー,2021,65,102,3-10,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520291856312935296,