著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
田中 孝佳,ウエハの洗浄と乾燥の過去・現在・未来 : 次世代半導体実現への挑戦,化学工学 = Chemical engineering of Japan,03759253,東京 : 化学工学会,2023-01,87,1,37-40,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520295049406392448,