著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
塚本 雄二 and 大島 賢一 and 岡田 修,ULSI用CuおよびAl配線・電極膜の密着性評価,足利工業大学研究集録,0287086X,足利 : 足利工業大学,2007-03,,41,1-7,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357093213952,