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河西 弘人 and 久須本 典煕 and 山中 英雄,触媒CVD法による高移動度poly-Si TFTの作製,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2001-04-19,101,16,19-25,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357278746112,