著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
野平 博司 and 品川 盛治 and 生田 哲也,極薄シリコン酸窒化膜の種々の結合形態にある窒素原子の深さ方向分布,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2005-06-09,105,108,49-54,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357281065600,