著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
佐々木 智憲 and 楊 明,ウェットプロセス膜の低エネルギーArイオン照射による高性能化,材料試験技術 = Journal of Material Testing Research Association of Japan,02852470,東京 : 日本材料試験技術協会,2005-04,50,2,64-68,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357349355136,