著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
諏訪 智之 and 荒谷 崇 and 樋口 正顕,角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2008-10,108,236,69-74,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357369458816,