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細井 卓治 and 大嶽 祐輝 and 有村 拓晃,TiN電極中の酸素に起因したHf系High-kゲート絶縁膜の特性劣化,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2012-06-21,121,92,43-46,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357526480896,