著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
鈴木 敏正,半導体ナノテクノロジー研究室の研究概要--3族窒化物半導体薄膜のエピタキシャル成長と評価,日本工業大学研究報告 = Report of researches,03892514,宮代町 (埼玉県) : 日本工業大学,2011-02,40,4,753-756,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357602531456,