著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
齊藤 誠二 and 石黒 啓太 and 高橋 聖司,ノボラック系ポジ型レジストにおける現像温度とレジスト特性との関係,高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology,03862186,東京 : 高分子学会,2012,69,11,639-645,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357647582592,