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川手 啓一 and 高安 義弘 and 柳井 久義,MNOS-FETのSiO2膜中電流キャリアに関する実験的検討,東京大学工学部総合試験所年報,03713067,東京 : 東京大学工学部総合試験所,1976-09,,35,p135-141,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572357706142848,