著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
近藤 英一,招待講演 超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス--細孔の評価と洗浄,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2010-07,110,154,23-28,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572358847517312,