著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
加藤 智久,次世代パワー半導体SiCウェハ技術の開発動向と課題,Ceramics Japan = セラミックス : bulletin of the Ceramic Society of Japan,0009031X,東京 : 日本セラミックス協会,2019-11,54,11,718-721,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572359633041152,