超LSI多層配線技術の現状と将来
書誌事項
- タイトル別名
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- チョウ LSI タソウ ハイセン ギジュツ ノ ゲンジョウ ト ショウライ
- シリコンLSIの高性能化技術特集
- シリコン LSI ノ コウセイノウカ ギジュツ トクシュウ
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収録刊行物
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- 電子情報通信学会論文誌. C-2, エレクトロニクス. 2, 電子素子・応用 = The Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2 / 電子情報通信学会 編
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電子情報通信学会論文誌. C-2, エレクトロニクス. 2, 電子素子・応用 = The Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2 / 電子情報通信学会 編 72 (5), p312-319, 1989-05
東京 : 電子情報通信学会エレクトロニクス ソサイエティ
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520572360249602304
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- NII論文ID
- 40004788786
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- NII書誌ID
- AN10071294
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- ISSN
- 09151907
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- NDL書誌ID
- 3233040
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles