著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
有村 拓晃,平成20年度大阪大学工業会賞受賞研究 異種元素添加によるHf系高誘電率ゲート絶縁膜の高性能化に関する研究,Techno net : 大阪大学工業会誌,,吹田 : 大阪大学工業会,2010-07,,549,21-26,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520572360421726208,