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仲沢 達也 and 永井 秀明 and 奥谷 猛,優秀論文 Cu₂ZnSnS₄均質薄膜の作製と評価,日本電子材料技術協会会報 = Bulletin of Japan Electronic Materials Society,02853833,[東京] : 日本電子材料技術協会,2012-11,43,,28-32,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520573330435826816,