著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
荻野 雄大,徳山事業所 シクロヘキサン製造装置 高純度グレード製造に向けた触媒希釈率の適正化,アロマティックス,03656187,東京 : 日本芳香族工業会,2022-07,74,夏季,101-107,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520574655201877376,