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中澤 日出樹 and 鈴木 大樹 and 遲澤 遼一,レーザーアブレーション法によるSi基板上AlN薄膜の形成,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2010-07,110,154,39-44,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853832043957248,