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宮田 典幸 and 奈良 純 and 山崎 隆浩 and 住田 杏子 and 佐野 良介 and 野平 博司,招待講演 HfO₂/SiO₂ MOS積層構造中の界面ダイポール変調動作,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2019-01-29,118,429,27-30,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853832472686592,