著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
徳光 永輔 and 中山 誠 and 日野 史郎,HfO2のMOCVD成膜におけるH2O酸化剤の効果,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2003-06-26,103,148,11-16,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853832826040704,