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J. Yanagisawa and H. Nakayama and O. Matsuda,Direct deposition of silicon and silicon-oxide films using low-energy Si focused ion beams,大阪大学極限科学研究センター報告書 = Report Kyokugen,13442546,豊中 : 大阪大学極限科学研究センター,1998-03,,2,275-278,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853832926553984,