Author,Title,Journal,ISSN,Publisher,Date,Volume,Number,Page,URL,URL(DOI)
石川 由加里 and 柴田 典義 and 深津 晋,Fabrication of Highly Oriented Si:SiO2 Nanoparticles Using Low Energy Oxygen Ion Implantation during Si Molecular Beam Epitaxy,JFCC review,09164553,名古屋 : ファインセラミックスセンター,1996-11,,8,42-45,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853833081793024,