Fabrication of Highly Oriented Si:SiO2 Nanoparticles Using Low Energy Oxygen Ion Implantation during Si Molecular Beam Epitaxy
書誌事項
- タイトル別名
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- Fabrication of Highly Oriented Si SiO2
- Si-MBE中の低エネルギー酸素イオン注入を用いたSiO2中に配向を制御したSiナノ結晶粒子の作製
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説明
資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
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- JFCC review
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JFCC review (8), 42-45, 1996-11
名古屋 : ファインセラミックスセンター
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520853833081793024
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- NII論文ID
- 40004857706
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- NII書誌ID
- AN10243287
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- ISSN
- 09164553
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- NDL書誌ID
- 4119195
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles
