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佐藤 勝 and 武山 真弓 and 早坂 祐一郎,ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2010-07,110,154,29-34,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853833251624448,