著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
尾嶋 正治 and 豊田 智史 and 奥村 務,高分解能角度分解光電子分光によるシリコン酸窒化膜及び高誘電率膜・シリコン界面の解析,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2003-06-27,103,149,31-36,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853833362236544,