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末永 和史 and 尾形 潔 and 脇 弘道,層間絶縁膜中OH基による Pt/PLZT/Ptキャパシタの劣化,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2001-03-06,100,653,19-23,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853833568489600,