著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
,講座 プロセス：IBM社のプロセス技術 ０．１０nmルール時代も主役に：Cu，SOIに続き，low－kとEBでも先行,日経エレクトロニクス = Nikkei electronics : sources of innovation,03851680,東京 : 日経BP,2000-09-11,,778,157-172,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853833776036096,