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細井 卓治 and 東雲 秀司 and 柏木 勇作,AIONゲート絶縁膜導入によるSiCパワーMOSFETの高性能化及び信頼性向上,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2013-01-30,112,421,19-22,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853833871249408,