著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
齋藤 真澄 and 中林 幸雄 and 太田 健介,招待講演 トライゲートナノワイヤMOSFETの短チャネル移動度解析とStress Memorization Technique(SMT)による性能向上,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2011-01-31,110,406,43-46,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853834016091520,