著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
増田 淳 and 戸塚 正裕 and 奥 友希,Cat-CVD法で作製したSiNx膜のGaAsトランジスタ保護膜への応用,電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,09135685,東京 : 電子情報通信学会,2004-06-12,104,111,11-16,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853834057345152,