著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
Tomoyasu Hiramatsu and Masaya Kato and Noriyuki Nanba,Characteristics Improvement of RF Magnetron Sputtering Y-Ba-Cu-O Thin Films by In-situ After-Treatments,関東学院大学工学部研究報告 = Journal of technological researches,03685373,横浜 : 関東学院大学工学部工学会,1996-11,40,1,1-4,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520853835086329472,